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砷化镓射频代工

基于自产外延的高性能 GaAs 6寸晶圆平台

人们追求在智能手机上享受越来越高效便捷的通信体验,推动了行业不断迭代手机射频前端架构设计,提供越来越强大的上传和下载能力。架构演进的主流方案,是采用更高集成度的功放模组(PAMiD),用尽量少的芯片去覆盖更多频段的通信需求。模组中关键的功率放大器(PA)芯片,往往会使用具备优越高频特性的砷化镓材料以支持如今上探到Sub-6 GHz等中高频段的通信需求。
三安以丰富的大规模制造和材料研发经验,开发6寸砷化镓HBT和pHEMT工艺平台,定制化开发外延,持续迭代工艺能力,进一步增强器件的高频特性,支持全球顶尖的射频前端设计公司创造性能更强的射频器件。

HBT

HG6

2/3/4G PA, High Ruggedness

HP1

LTE-A / 5G HPUE PA, Wi-Fi / Satcom PA

HP3

5G-A / Wi-Fi 6e/7 PA, Superior Linearity

HP5

5G-A / Wi-Fi 6e/7 PA, Superior Ruggedness

pHEMT

25ED3

LNA, Switches & ESD

25ED5

LNA, Switches & Limiter

Addtional Tech

Cu Pillar

Flip-Chip with optimized parasitic parameter

IPD

For RLC passive design

PINAB

i-layer 1.2µm for Switch and limiter

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